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1

Laser frequency stabilization using an Fe-Ar hollow cathode discharge cell

B. Smeets, R.C.M. Bosch, P. van der Straten, E. te Sligte, R.E. Scholten, H.C.W. Beijerinck, K.A.H. van Leeuwen

Journal:

Applied Physics B: Lasers and Optics

Année:

2003

Langue:

english

Fichier:

PDF, 305 KB

english, 2003

2

Laser collimation of an Fe atomic beam on a leaky transition

B. Smeets, R. W. Herfst, L. P. Maguire, E. te Sligte, P. van der Straten, H. C. W. Beijerinck, K. A. H. van Leeuwen

Journal:

Applied Physics B: Lasers and Optics

Année:

2005

Langue:

english

Fichier:

PDF, 570 KB

english, 2005

3

Redenen voor verzuim door studenten na vrijwillige inschrijving voor simulatiepatiëntencontacten

K. te Sligte, J. van Dalen, G. M. Verwijnen, J. J. Rethans

Journal:

Tijdschrift voor Medisch Onderwijs

Année:

2001

Fichier:

PDF, 31 KB

2001

4

Progress towards atom lithography on iron

E. te Sligte, B. Smeets, R.C.M. Bosch, K.M.R. van der Stam, L.P. Maguire, R.E. Scholten, H.C.W. Beijerinck, K.A.H. van Leeuwen

Journal:

Microelectronic Engineering

Année:

2003

Langue:

english

Fichier:

PDF, 394 KB

english, 2003

5

Laser-cooling simulation based on the semiclassical approach

Smeets, Bart, Herfst, Rudolf W., te Sligte, Edwin, van der Straten, Peter, Beijerinck, Herman C., van Leeuwen, Karel A. H.

Journal:

Journal of the Optical Society of America B

Année:

2005

Langue:

english

Fichier:

PDF, 125 KB

english, 2005

6

Non-alcoholic steatohepatitis: review of a growing medical problem

K te Sligte, I Bourass, J.P Sels, A Driessen, R.W Stockbrűgger, G.H Koek

Journal:

European Journal of Internal Medicine

Année:

2004

Langue:

english

Fichier:

PDF, 543 KB

english, 2004

7

Atom lithography of Fe

te Sligte, E., Smeets, B., van der Stam, K. M. R., Herfst, R. W., van der Straten, P., Beijerinck, H. C. W., van Leeuwen, K. A. H.

Journal:

Applied Physics Letters

Année:

2004

Langue:

english

Fichier:

PDF, 453 KB

english, 2004

8

Quantum Features in Atomic Nanofabrication using Exactly Resonant Standing Waves

Jürgens, Dirk, Greiner, Alexander, Stützle, Ralf, Habenicht, Anja, te Sligte, Edwin, Oberthaler, Markus K.

Journal:

Physical Review Letters

Année:

2004

Langue:

english

Fichier:

PDF, 663 KB

english, 2004

9

Barrier-limited surface diffusion in atom lithography

Journal:

Journal of Applied Physics

Année:

2004

Langue:

english

Fichier:

PDF, 424 KB

english, 2004

10

Low-pressure source of slow metastable rare gas atoms

van der Velden, M. H. L., Batelaan, H., te Sligte, E., Beijerinck, H. C. W., Vredenbregt, E. J. D.

Journal:

Review of Scientific Instruments

Année:

2004

Langue:

english

Fichier:

PDF, 358 KB

english, 2004

11

Magnetic nanodots from atomic Fe: Can it be done?

te Sligte, E., Bosch, R. C. M., Smeets, B., van der Straten, P., Beijerinck, H. C. W., van Leeuwen, K. A. H.

Journal:

Proceedings of the National Academy of Sciences

Année:

2002

Langue:

english

Fichier:

PDF, 262 KB

english, 2002

12

SPIE Proceedings [SPIE Photomask Japan 2016 - Yokohama, Japan (Wednesday 6 April 2016)] Photomask Japan 2016: XXIII Symposium on Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology - EBL2, a flexible, controlled EUV exposure and surface analysis facility

Yoshioka, Nobuyuki, te Sligte, Edwin, Koster, Norbert, Molkenboer, Freek, Deutz, Alex

Année:

2016

Langue:

english

Fichier:

PDF, 2.49 MB

english, 2016

13

SPIE Proceedings [SPIE SPIE Photomask Technology - Monterey, California, United States (Tuesday 16 September 2014)] Photomask Technology 2014 - A new mask exposure and analysis facility

Ackmann, Paul W., Hayashi, Naoya, te Sligte, Edwin, Koster, Norbert, Deutz, Alex, Staring, Wilbert

Année:

2014

Langue:

english

Fichier:

PDF, 591 KB

english, 2014

14

SPIE Proceedings [SPIE SPIE Photomask Technology - San Jose, California, United States (Monday 12 September 2016)] Photomask Technology 2016 - EBL2: high power EUV exposure facility

Kasprowicz, Bryan S., Buck, Peter D., te Sligte, Edwin, Koster, Norbert, Molkenboer, Freek, van der Walle, Peter, Muilwijk, Pim, Mulckhuyse, Wouter, Oostdijck, Bastiaan, Hollemans, Christiaan, Nijland

Année:

2016

Langue:

english

Fichier:

PDF, 687 KB

english, 2016

15

SPIE Proceedings [SPIE SPIE Advanced Lithography - San Jose, California, United States (Sunday 26 February 2017)] Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography VIII - First light at EBL2

Panning, Eric M., Goldberg, Kenneth A., Koster, Norbert, te Sligte, Edwin, Molkenboer, Freek, Deutz, Alex, van der Walle, Peter, Muilwijk, Pim, Mulckhuyse, Wouter, Oostdijck, Bastiaan, Hollemans, Chri

Année:

2017

Langue:

english

Fichier:

PDF, 3.15 MB

english, 2017